В новом релизе мы улучшили PIX Процессную студию и добавили кое-что новое:
— Повысили скорость добавления и перемещения элементов на канвасе;
— Добавили валидацию свойств процессов: в свойстве допустимы только цифры и т. д.;
— Доработали отображение свойств разного типа: многострочный текст, истина/ложь и другие;
— Дополнили нотацию EPC новыми элементами: «Организационная единица» и «Кластер»;
— Добавили артефакты в нотацию BPMN 2.0.
Подробнее о релизе — в Базе знаний.